La tecnología de pulido de superficie es un proceso clave indispensable en la industria manufacturera, que afecta directamente la calidad de la apariencia, las propiedades ópticas y las propiedades mecánicas del producto . se ha convertido en un material importante en el campo de pulido debido a su alta dureza, estabilidad química y distribución de tamaño de partículas controlables .Polvo de pulido de alúminaes un abrasivo ampliamente utilizado en el pulido de precisión, adecuado para el pulido de varios materiales, como metales, vidrio, cerámica, semiconductores, etc. .
Clasificación de polvo de pulido de alúmina:
1. según la estructura cristalina
• -Alumina (corundum): fase estable de alta temperatura, dureza más alta, adecuada para el pulido de zafiro y metal .
• -Alumina: gran área de superficie específica, alta actividad, adecuada para el pulido mecánico químico (cmp) .
• Alúmina mixta: rendimiento de pulido optimizado a través de la modificación de dopaje (como CR, Si) .
2. por tamaño de partícula
|
tipo |
Rango de tamaño de partícula |
Escenarios aplicables |
|
Pulido áspero |
1–10 μm |
Metal Decurning, Corte rápido |
|
Pulido fino |
0.1–1 μm |
Pulido de vidrio y cerámica |
|
Super pulido |
<0.1 μm |
Semiconductores, componentes ópticos |
3. por pureza
• Grado industrial (mayor o igual al 99%): metal ordinario, pulido de vidrio .
• Grado de alta pureza (mayor o igual a 99 . 9%): lente óptica, cerámica electrónica.
• Grado de pureza Ultra-High (mayor o igual a 99 . 99%): obleas semiconductores, sustratos LED.
Proceso de preparación del polvo de pulido de alúmina:
Procesamiento de materia prima
• Proceso de Bayer: extraer alúmina de alta pureza de bauxita .
• Método sol-gel: prepare nano-alúmina con distribución de tamaño de partícula uniforme .
Calcinación y clasificación
• High-temperature calcination (>1200 grados): generar -alumina .
• fresado de flujo de aire: controlar el tamaño de la partícula y evitar la aglomeración .
Modificación de la superficie
• Tratamiento del agente de acoplamiento de silano: mejorar la dispersión y reducir los rasguños de pulido .
Aplicación de polvo de pulido de alúmina:
1. Industria de semiconductores
• Pulido CMP: utilizado para la planarización de obleas de silicio y obleas de arsenuro de galio (GaAs), que requieren nano -grado -alumina .
2. Industria óptica y de visualización
• Pulido de zafiro: las cubiertas de lentes de teléfonos inteligentes y sustratos LED requieren una alumina de alta pureza (0 . 1–0.5 μm).
• Lente de vidrio: reducir la rugosidad de la superficie (ra<1 nm).
3. procesamiento de metal
• Pulido de espejo de acero inoxidable: proceso de combinación de pulido áspero (5 μm) + pulido fino (1 μm) .
4. cerámica y materiales compuestos
• sustratos de cerámica electrónica: pulido de precisión de la cerámica de alúmina .
Polvo de pulido de alúminase ha convertido en un material irremplazable en el campo de la fabricación de precisión debido a su excelente rendimiento y una amplia aplicación . en el futuro, con el rápido desarrollo de industrias como los semiconductores y la nueva energía, la demanda del mercado de alúmina de alúmina de alta pureza se expandirá aún más, y la innovación tecnológica y la optimización de procesos se convertirán en el núcleo de la industria de la industria de la industria de la industria de la industria.
competencia .